納米超細研磨分散機GMD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客

GMD2000系列鐵紅研磨機的特點： ① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨 ② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。 ③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離 ④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。 ⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的

硅橡膠研磨分散機的意義】 硅橡膠是有機硅聚合物中的重要產(chǎn)品之一，硅橡膠依其側(cè)基種類的不同，可以分為二甲基硅橡膠、甲基乙烯基硅橡膠、甲基苯基硅橡膠和氟硅橡膠等，在實際生產(chǎn)中應用較多的是甲基乙烯基硅橡膠。硅橡膠按其硫化機理可分為有機過氧化物引發(fā)自由基交聯(lián)型（熱硫化型）、縮聚反應型（室溫硫化型）和加成反應型三大類。

【脫模劑研磨分散機的簡介】 GMD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五

【香菇醬高剪切研磨分散機簡述】 SGN分散機GMD2000系列特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，GMD在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GMD2000整機采用幾何機構的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料

【酵母菌超高速研磨分散機的特點】 ① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨 ② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。 ③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離 ④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。 ⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

三級納米高速研磨分散機，主要用于微乳液及超細懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭（定子+轉(zhuǎn)子）同時工作，乳液經(jīng)過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同的工藝應用。該系列中不同的型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大生產(chǎn)。適宜的溫度，壓力與粘度參數(shù)與DSSPERSSNG一樣。也符合GSP/SSP清潔標準，適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。

奶昔管線式分散研磨機的簡介 采用三級定轉(zhuǎn)子結構，依次配上2G、4M、6F的精密定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子間隙控制在0.2-0.3mm之間，配合10500rpm超高的轉(zhuǎn)速，將奶昔加熱至80度，然后用轉(zhuǎn)子泵或者螺桿泵輸入進奶昔三級管線式高剪切研磨機處理一遍，打出來的效果經(jīng)北京某大型乳制品企業(yè)專家級工程師從口感、外觀等各方面檢測都非常好，遠遠超過高壓均質(zhì)機打出的效果。且能耗是高壓均質(zhì)機的三分之一都不到。